美術表現領域岡崎有紗さんが再興第111回院展に入選

作品：「反射」　初入選

美術表現領域の4年岡崎有紗さんが再興第111回院展に初入選いたしました。
下記で展示されています。お近くにお越しの際はお立ち寄りください。

■東京会場
会期：2026年9月1日（火）～　2026年09月17日（木）
会場：東京都美術館　ロビー階第1～4公募展示室

■名古屋会場
会期：2026年11月27日（金）～　2026年12月7日（月）
会場：松坂屋美術館　松坂屋名古屋店南館7階

美術表現領域 岡崎有紗さんが再興第111回院展に入選